기술협력 연구센터 | (주)태광교역
Application-Based Product Selection
Target 막질과 공정 목적을 기반으로 적합한 Etchant·Cleaning Solution·Advanced Materials 및 관련 부품·장비를 제안합니다. 초기 연구 단계에는 맞춤형 제품 선정과 소량 R&D Starter Kit을 지원합니다.
대표값이며 실제 식각속도는 막질·온도·농도·교반 조건에 따라 달라질 수 있습니다.
Metal Catalog에는 주요 제품사양과 기술정보를 통합 제공하며, SDS는 고객 요청 후 선택 모델 기준으로 제공합니다.
※ 대표 재료 호환성 정보이며 실제 결과는 막질 및 공정조건에 따라 달라질 수 있습니다.
APPLICATION
제품명이 확정되지 않아도 Target film, underlayer, 공정 목적과 요구 특성을 기준으로 제품 선정과 초기 공정조건을 검토합니다.
Etch Rate, Uniformity, Undercut를 고려한 금속 박막 패터닝.
Target/Underlayer 조합, Selectivity 및 재료 호환성 검토.
공정 후 Residue, Particle 및 표면 오염 저감 솔루션.
Roughness, Surface Quality와 공정 안정성 검토.
R&D SUPPORT · NEW
Wet Etching을 처음 시작하거나 소량 초기 평가가 필요한 연구자를 위한 간편 연구지원 Kit입니다.
반복 사용 연구자와 일반 구매 고객은 기존 표준 공급방식을 이용합니다.
