TECHNICAL RESOURCES

기술자료

Wet Etching 연구 및 공정평가에 필요한 적용사례, 공정 가이드와 기술 데이터를 제공합니다. 제품별 사양, Etch Rate 및 Selectivity Matrix는 제품소개에서 확인할 수 있습니다.

Application Note 실제 막질과 공정조건을 기준으로 Wet Etchant 적용 및 평가방법을 설명합니다.
Process Guide Etchant 선정, Underlayer 검토, 세정 및 공정 최적화 방법을 제공합니다.
Technical Data 공정평가 및 분석을 통해 확보된 기술 데이터와 평가 결과를 제공합니다.

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Application · Process · Technical Data
번호 카테고리 제목 작성일자 조회수
공지 Application Double Patterning: An Etch Perspective 2020-12-29 6655
3 Application 나노 스케일의 완벽함, 오차 없는 식각 솔루션 2026-03-20 161
2 Application Etching Process 2019-08-26 7209
1 Application 박막제조공정 (Thinfilm Process) 2019-08-26 7189
Technical Support

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(주)태광교역 고순도 반도체 식각액(Etchant) 기술 데이터 센터

태광교역은 반도체, 디스플레이, 나노 소재 공정을 위한 최적의 에천트 솔루션을 제공하며 고순도 그래핀(Graphene), 탄소나노튜브(CNT), 은 나노와이어(Ag Nanowire), 양자점(Quantum Dot) 등 나노 소재의 분산(Dispersion) 및 합성을 전문으로 합니다. 실험실 규모(Lab-scale)부터 파일럿 생산까지 대응 가능한 기술 데이터를 보유하고 있으며, 나노 소재 전사 공정 및 코팅 최적화를 위한 커스텀 TDS를 지원합니다.

타겟 금속별 식각 솔루션

기술 지원 데이터 (Technical Data Support)

모델별 식각 속도(Etch Rate), 이종 금속 간 선택비(Selectivity Matrix), TDS 및 MSDS 기술 자료 제공.

연구용 샘플 신청 및 공정 온도, 두께에 따른 맞춤형 기술 상담 (sales@e-taekwang.com)